ЗАСАДИ ЗАСТОСУВАННЯ НАДТОНКИХ ПОКРИТТІВ ДЛЯ ЕКРАНУВАННЯ ЕЛЕКТРОМАГНІТНИХ ВИПРОМІНЮВАНЬ ТЕХНОГЕННОГО ПОХОДЖЕННЯ

Анотація

Мета. Розробити засади застосування надтонких металізованих покриттів для екранування електромагнітних випромінювань техногенного походження.

Методика. Теоретичне обґрунтування отримання надтонких металевих покриттів для оптимального екранування електромагнітних полів ультрависоких і вищих частот. Емпіричне підтвердження того, що напилення тонкого металевого шару на скло забезпечує захист від впливу електромагнітних випромінювань і не знижує суттєво проникнення денного світла.

Результати. Встановлено, що коефіцієнт відбиття для покриттів товщиною до 10 нм може забезпечити коефіцієнти відбиття електромагнітних хвиль до 25 дБ. Надано розрахункові співвідношення для визначення провідності металевої плівки, яка суттєво відрізняється від об'ємної електропровідності і визначає значення коефіцієнта екранування. Надані залежності коефіцієнтів відбиття напилення у поширених металах від товщини плівки. Встановлено ефект досягнення максимуму коефіцієнта відбиття за певної товщини плівки. Розрахунково показано, що відбувається за товщини плівки, яка дорівнює товщині скін-шару для даної частоти випромінювання. Це надає можливість оптимізувати товщину металевого напилення як з точки зору електромагнітної безпеки, так і виходячи з потреб освітлення.

Новизна. На основі розрахунків встановлено, що стабільне значення коефіцієнта відбиття електромагнітних хвиль досягається на визначеній частоті електромагнітного поля за умови, коли товщина плівки досягає товщини скін-шару у металі.

Практична значимість. Встановлено що у діапазонах ультрависоких і надвисокий частот коефіцієнт відбиття електромагнітних хвиль для фіксованої товщини плівки практично не залежить від частоти випромінювання. Для підвищення ефективності екранування скла з металевим напиленням металізований шар бажано заземлити.